2019年7月1日の法改正により名称が変わりました。まえがきを除き，本規格中の「日本工業規格」を「日本産業規格」に読み替えてください。
R 1751-4：2013
目
次
ページ
1 適用範囲························································································································· 1
2 引用規格························································································································· 1
3 用語及び定義 ··················································································································· 1
4 試験装置························································································································· 1
5 試験片···························································································································· 2
6 試験方法························································································································· 2
6.1 一般事項 ······················································································································ 2
6.2 試験片の前処理 ············································································································· 3
6.3 測定準備 ······················································································································ 3
6.4 予備試験 ······················································································································ 3
6.5 ホルムアルデヒド除去試験 ······························································································ 4
7 試験結果の計算 ················································································································ 4
8 除去量が小さい試験片の場合の試験方法 ··············································································· 5
9 報告書···························································································································· 5
（1）
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R 1751-4：2013
まえがき
この規格は，工業標準化法第12条第1項の規定に基づき，一般社団法人日本ファインセラミックス協会
（JFCA）から，工業標準原案を具して日本工業規格を制定すべきとの申出があり，日本工業標準調査会の
審議を経て，経済産業大臣が制定した日本工業規格である。
この規格は，著作権法で保護対象となっている著作物である。
この規格の一部が，特許権，出願公開後の特許出願又は実用新案権に抵触する可能性があることに注意
を喚起する。経済産業大臣及び日本工業標準調査会は，このような特許権，出願公開後の特許出願及び実
用新案権に関わる確認について，責任はもたない。
JIS R 1751の規格群には，次に示す部編成がある。
JIS R 1751-1 第1部：窒素酸化物の除去性能
JIS R 1751-2 第2部：アセトアルデヒドの除去性能
JIS R 1751-3 第3部：トルエンの除去性能
JIS R 1751-4 第4部：ホルムアルデヒドの除去性能
JIS R 1751-5 第5部：メチルメルカプタンの除去性能
JIS R 1751-6 第6部：小形チャンバーを用いたホルムアルデヒドの除去性能
（2）
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日本工業規格
JIS
R 1751-4：2013
ファインセラミックス−
可視光応答形光触媒材料の空気浄化性能試験方法−
第4部：ホルムアルデヒドの除去性能
Fine ceramics (advanced ceramics, advanced technical ceramics)-
Test method for air purification performance of photocatalytic materials under
indoor lighting environment-Part 4: Removal of formaldehyde
1
適用範囲
この規格は，可視光応答形光触媒を建築材料，その他の材料の表面に担持させた光触媒材料の空気浄化
性能のうち，室内環境など可視光が照射されている条件での，気体のホルムアルデヒド（HCHO）の除去
性能を試験する方法について規定する。
なお，紫外線照射下におけるホルムアルデヒドの除去性能を試験する場合は，JIS R 1701-4を適用する。
2
引用規格
次に掲げる規格は，この規格に引用されることによって，この規格の規定の一部を構成する。これらの
引用規格は，その最新版（追補を含む。）を適用する。
JIS A 1962 室内空気中のホルムアルデヒド及び他のカルボニル化合物の定量−ポンプサンプリング
JIS R 1600 ファインセラミックス関連用語
JIS R 1701-4 ファインセラミックス−光触媒材料の空気浄化性能試験方法−第4部：ホルムアルデヒ
ドの除去性能
JIS R 1751-1 ファインセラミックス−可視光応答形光触媒材料の空気浄化性能試験方法−第1部：窒
素酸化物の除去性能
JIS Z 8401 数値の丸め方
JIS Z 8806 湿度−測定方法
3
用語及び定義
この規格で用いる主な用語及び定義は，JIS R 1600及びJIS R 1751-1によるほか，次による。
3.1
供給濃度
試験を行うために光照射容器に導入する試験用ガスの濃度。
4
4.1
試験装置
装置の構成 試験装置は，JIS R 1751-1の4.1（装置の構成）による。低濃度のホルムアルデヒドを
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R 1751-4：2013
含む空気を扱うことから，吸着などによる損失が最小となるように配慮したものでなければならない。
4.2
試験用ガス供給装置 試験用ガス供給装置は，JIS R 1751-1の4.2（試験用ガス供給装置）による。
高圧容器入りのホルムアルデヒド標準ガスを用いて，所定の濃度・温度・湿度の試験用ガスを調製し，光
照射容器に連続的に供給する。流量制御器，加湿器，ガス混合器などからなる。
なお，ホルムアルデヒドガスは高圧容器入りの標準ガス以外に，適切な方法で発生させたものを用いる
こともできる。ただし，この方法による場合は，試験時間中一定濃度のホルムアルデヒドガスを発生でき
ること，及び発生するガス中にメタノールなどの不純物が試験結果に影響しないことをあらかじめ確認し
ておく必要がある。
4.3
光照射容器 光照射容器は，ホルムアルデヒドガスの吸着が少ない材料で製作し，構造，形状など
はJIS R 1751-1の4.3（光照射容器）による。
4.4
光源 光源は，JIS R 1751-1の4.4（光源）による。
4.5
紫外線カットフィルタ 紫外線カットフィルタは，JIS R 1751-1の4.5（紫外線カットフィルタ）に
よる。屋内照明環境条件は，JIS R 1751-1の4.5（紫外線カットフィルタ）の条件A〜条件Cによる。
4.6
汚染物質濃度測定装置 ホルムアルデヒド濃度の測定は，DNPH誘導体化固相吸着・溶媒抽出−高
速液体クロマトグラフ法（DNPH-HPLC法）によって，JIS A 1962に規定する試薬，器具及び装置を用い
る。
5
試験片
試験片は，平板状又はフィルタ状の光触媒材料で，幅49.0±1.0 mm，長さ99.0±1.0 mmとする。光照射
容器内で補助板などとの間に隙間ができる場合は，試験片を上流側に寄せるとともに，必要に応じてスペ
ーサーなどを用いて調整する。平板状の場合には，光触媒面以外によるガス吸着を抑制するために，試験
片の厚さは5 mm以下とする。しかし，これを超えた厚さの材料でも，同じ試験条件が保たれるなら試験
できる。光照射容器の深さが十分にあれば，厚さが5 mm以上の試験片を用いることも可能であるが，厚
い試験片の場合には，側面による吸着が予想されるので，あらかじめ側面をシールしておく。フィルタ状
の場合には，厚さを20 mm以内にする。
6
試験方法
6.1
一般事項
ホルムアルデヒド除去試験は6.2〜6.5に示す手順で実施し，光照射時の除去量を調べる。この過程にお
けるホルムアルデヒド濃度の測定例を，図1に示す。また，ホルムアルデヒド除去量が非常に小さく，正
確な測定が困難な場合は，箇条8によって試験条件を変更することができる。
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R 1751-4：2013
図1−試験操作におけるホルムアルデヒド濃度の測定例
6.2
試験片の前処理
試験片に付着又は吸着している有機物を完全に除去するため，次の手順で試験片の前処理を実施する。
この操作の直後に試験を開始しない場合には，密閉容器に入れて暗所で保管する。
a) 水洗 精製水に試験片を2時間以上浸せき（漬）した後，取り出して室温で風乾する。
なお，120 ℃を上限として，物理的・化学的な変化を生じさせない範囲で試験片を加熱乾燥しても
よいが，恒量になることを確認する。洗液に沈殿物などがあればその状況，乾燥の方法などを記録す
る。
b) 有機物の除去 紫外線ランプを用いて12時間以上24時間未満の光照射を行う。光触媒面での紫外線
照度は10〜20 W/m2の範囲とする。光照射はゼロガス中，又は清浄な密閉容器内で行う。親油性の汚
れが予想される場合には，b)，a)の順で実施してもよい。また，水洗によって試験片の諸性状に悪影
響が出る場合は，a)を省略してもよい。
6.3
測定準備
測定準備は，次による。
a) ホルムアルデヒド濃度1.0±0.1体積分率ppm，水蒸気濃度1.56±0.16体積分率%，温度25.0±2.5 ℃
の試験用ガスが安定して発生できるように試験用ガス供給装置をあらかじめ調整しておく。光照射容
器入口で流量が1.0±0.05 L/min（0 ℃，101.3 kPaの標準状態において）となるように流量制御器を設
定する。このときの水蒸気濃度は25 ℃における相対湿度50±5 %に相当する。湿度の測定はJIS Z
8806によって行う。また，試験片上表面における光源からの照度を測定し，記録する。
b) 光照射容器内のガス流路部分の中央に試験片を設置し，窓板までの空間の厚さを5.0±0.5 mmに調整
するとともに，試験片と前後のガス流路との段差が1 mm以内となるよう，必要に応じて補助板を置
く。その後，窓板を取り付け，密閉されていることを確認する。
c) 光源と光照射容器との間に紫外線カットフィルタを設置する。紫外線カットフィルタを通過しない光
が試験片に照射されないように位置を決める。
6.4
予備試験
ホルムアルデヒド濃度を即時に知ることができない場合は，光を照射しない暗条件における試験片への
ホルムアルデヒドの吸着が飽和に達することを試験中に確認することができないため，次の予備試験を行
う。ホルムアルデヒド濃度を即時に把握できる場合は予備試験は行う必要はない。
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6.2及び6.3を行った後，光照射容器に試験用ガスを導入する。暗条件でのホルムアルデヒド濃度を15
分間隔で90分になるまで測定する。ホルムアルデヒド濃度が供給濃度の90 %を超える時間を暗条件の時
間，そのときのホルムアルデヒド濃度を暗条件の濃度とする。90分後もホルムアルデヒド濃度が供給濃度
の90 %を下回る場合には，この試験法を適用しない。
6.5
ホルムアルデヒド除去試験
a) 前処理済みの試験片を6.3 b)に従い設置する。
なお，予備試験で使用した試験片を再度使用する場合は，必ずもう一度6.2の前処理を行う。
b) 6.4を行っている場合は，あらかじめ確認した暗条件の時間，光照射容器に試験用ガスを導入する。予
備試験を行っていない場合は，次の操作を行う。光照射容器に試験用ガスを導入し，暗条件でのホル
ムアルデヒド濃度を測定する。ホルムアルデヒドの試験片への吸着が進み，ホルムアルデヒド濃度が
供給濃度の90 %を超える時間を暗条件の時間，そのときのホルムアルデヒド濃度を暗条件の濃度とす
る。90分後もホルムアルデヒド濃度が供給濃度の90 %を下回る場合には，この試験法を適用しない。
c) 光源を点灯し（安定な点灯に時間を要する光源については，光が試験片に当たらないようにするため
の遮蔽物を設置した上であらかじめ点灯しておき，安定した後，遮蔽物を取り除く。）光照射を3時間
継続する。ホルムアルデヒドの光触媒分解が起こると，図1のようにホルムアルデヒドの濃度が低下
して，やがて一定になる。ホルムアルデヒド濃度測定は，1時間を超えない時間に1点以上測定する
こととする。また，最後の1時間（光照射後120分〜180分）は必ず3点以上測定することとする。
除去量などの計算に用いる試験容器出口におけるホルムアルデヒド濃度（[F]）は，最後の1時間中に
測定した濃度（3点以上）の平均値とする。
d) 光照射及び容器への試験用ガスの供給を停止し，試験片を容器から取り出す。
7
試験結果の計算
試験容器出口におけるホルムアルデヒド濃度[F]が式(1)を満たさない場合は試験不成立とし，次の計算は
行わない。ホルムアルデヒド除去率RFは式(2)によって計算する。除去率RFの計算値の処理は，JIS Z 8401
によって小数点以下2桁に丸める。除去率RFが5.0 %未満又は95.0 %以上となる場合は，“5.0 %未満”又
は“95.0 %以上”とし，これを除去率とする。次に，1時間当たりのホルムアルデヒド除去量QFを式(3)
を用いて計算する。除去量QFの計算値の処理は，JIS Z 8401によって小数点以下2桁に丸める。
計算に用いるホルムアルデヒド濃度は，水分補正を行わない実測値とする。また，試験用ガス流量fと
しては0 ℃，101.3 kPa換算の実測値を用いる。除去率RFが5.0 %未満又は95.0 %以上の場合はRFに5.0
又は95.0を代入し，得られた除去量QFに“未満”又は“以上”を付け，これを除去量とする。
なお，除去率RFが5.0 %未満の試験片については，箇条8によって試験条件を緩和した測定を行うこと
ができる。
[
F≦
] [
F
]
d
−F
[ ]
0
×
.0
05 ································································ (1)
RF
=
[
F
]
0
−
[
F
]
×
100 ·································································· (2)
[
F
]
0
Q
F
=
R
F
×
ここに，
[
F
]
0
×
f
×
60
······························································· (3)
100
×
22
4.
[F]： 試験容器出口におけるホルムアルデヒド濃度（体積分率ppm）
[F]d： 暗条件のホルムアルデヒド濃度（体積分率ppm）
[F]0： ホルムアルデヒドの供給濃度（体積分率ppm）
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RF： 試験片によるホルムアルデヒドの除去率（%）
QF： 試験片による1時間当たりのホルムアルデヒドの除去量
（μmol/h）
f： 標準状態（0 ℃，101.3 kPa）に換算した試験用ガス流量（L/min）
8
除去量が小さい試験片の場合の試験方法
平板状の試験片の測定において，得られた除去率RFが5.0 %未満で除去量を正確に測定できないことが
予想される場合は，試験片の枚数及び試験用ガス流量の両方を同時に表1のとおり変更して測定すること
ができる。この場合，試験片の前にガス流路部分を100 mm以上確保する。
なお，試験条件を変更した場合，報告書に記載するホルムアルデヒド除去量は，式(3)から求められる値
の1/2とする。また，試験条件を変更した場合，変更した試験条件における暗条件の時間を確認する必要
がある。
表1−試験条件の変更
9
変更できる試験条件
変更後の値
試験用ガス流量
試験片の枚数
2枚
報告書
試験報告書には，通常，次の内容を記載する。
a) 一般事項
− この規格の番号
− 試験年月日
b) 試験機関
− 試験機関の名称及び所在地
− 試験責任者名
− 気温・湿度
c) 試験片に関する情報
− 試験片の種類，製造番号，バッチ番号など
− 材質，形状及び寸法
− 試験片の選択プロセス（抜取り方法など）
− 試験機関到着日，包装から取り出した日時及び試験片を準備した日時
d) 結果
− 試験片による1時間当たりのホルムアルデヒドの除去量
− 参考値として，ホルムアルデヒド除去率
e) 試験条件
− ホルムアルデヒドの供給方法
− ホルムアルデヒド供給濃度，試験ガス流量及び水蒸気濃度
− 箇条8適用の有無（試験用ガス流量及び試験片枚数の変更）
− 光照射条件（光源の種類，選択した屋内照明環境条件，紫外線カットフィルタの種類及び照度）
− 前処理条件（水洗及び乾燥の条件，紫外線照度・照射時間）
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f)
試験装置
− 試験装置の形式及び仕様
− ホルムアルデヒド濃度分析装置，ガスサンプリング方法，照度計，紫外線放射照度計などの種類
g) その他
− 試験状況及び試験後の試験片に関しての特記事項
